主要用途MAJOR USAGES

該設(shè)備是用磁控濺射方法在塑料薄膜基材上鍍制太陽控制膜、低輻射膜、ITO透明導(dǎo)電膜等功能性膜層。主裳用于汽車、 火車、輪船等前擋及玻璃門窗的貼膜；建筑門窗及幕墻貼膜；防靜電和電磁貼膜；裝飾貼膜和包裝膜；太陽能暖房貼膜；電 加熱器膜；防霜霧透明膜；液晶顯示和場(chǎng)致發(fā)光顯示用透明電極膜等。

The magnetron sputtering device is used in the plastic film substrate coated solar control film, Low-E film, ITO transparent conductive film functional layers. Mainly used in cars, trains, ships, etc., and glass block windows and doors before the film; doors and windows and curtain wall film; anti-static and electromagnetic film; decorative film and packaging film; solar greenhouse film; electric heater film; anti-frost and fog transparent film; liquid crystal display and electroluminescent display with a transparent electrode film.

工作原理 WORKING PRINCIPLE

磁控濺射是一門多用途的薄膜沉積技術(shù),運(yùn)行壓力在3.5X10—3 mbar范圍內(nèi)和且使用氯氣作為反應(yīng)氣體，采用輝光放電 或等離子體由一個(gè)專門設(shè)計(jì)的高負(fù)電壓供電產(chǎn)生氣體離子轟擊靶材的表面，材料在氯離子的影響下從靶材中被濺射出來。

Ar氣被用作反應(yīng)氣伸,因?yàn)樗鼘俣栊詺怏w,而且相対便宜。像02和N2這樣的氣伸也可以被充入并與濺射材料發(fā)生反應(yīng), 主裳用來鍍氧化物和氮化物。額外的技術(shù)如等離子預(yù)處理系統(tǒng)用于特定應(yīng)用的脈沖直流濺射。

應(yīng)用領(lǐng)域 APPLICATION AREA

主要技術(shù)參數(shù) MAIN TECHNICAL PARAMETERS